標題:力晶 公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I622176專利
日期:2018-06-29
股票代號:5346
發言時間:2018-06-29 16:04:52
說明:
1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
MIM電容之結構及其製造方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/04/21
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 109,200
4.其他應敘明事項:
一種金屬-絕緣層-金屬(Metal-Insulator-Metal:MIM)電容,其中包括第一電極
層、第二電極層以及倒T型介電層堆疊結構。其中倒T型介電層堆疊結構形成於第
一電極層與第二電極層之間。上述之倒T型介電層堆疊結構包括垂直部及水平部連
接該垂直部,其中另一介電層圖案形成於該垂直部與水平部之間,以形成該倒T型
介電層堆疊結構。